高溫鉭金屬用非自耗真空電弧爐 主要用于金屬鉭鈮，釩等超高溫金屬的熔煉制備，也用于稀貴金屬，活潑金屬的熔煉制備，一體化設(shè)計(jì)，采用新型自主研發(fā)電弧電源，功耗小引弧方便，操作便攜，適用范圍廣，即可做高溫合金制備，也可用于金屬合金的熔樣制樣，熔煉材料多樣性，是制備母合金材料的主要設(shè)備

高溫鉭金屬用非自耗真空電弧爐 主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)： KDH-800

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵、JTFB-600分子泵、高真空氣動(dòng)擋板閥和各種管路真空系統(tǒng) 分體安裝，方便拆卸并便于和其他真空設(shè)備對(duì)接，一套多用。

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa

5、熔煉電流：額定電流≤800A

6、熔煉坩堝 有1~5個(gè)￠50*35半球形工位窩，容重（樣品重量）50-200(克）/熔煉池，帶翻料機(jī)構(gòu)，可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品

7、帶吸鑄工位，容重（樣品重量）50-80(克）吸鑄模具滑配設(shè)計(jì)方便拆卸。

8、工作氣體：Ar氣；

9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

10、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

11、爐體側(cè)部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀(guān)察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

設(shè)備組成：

1、電弧熔煉真空室：真空室立式圓筒形設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介美觀(guān)，側(cè)部開(kāi)有KF快接接口，用于真空閥門(mén)及輔助測(cè)量原件的安裝，在真空室正前方有一小爐門(mén)，側(cè)部打開(kāi)，方便裝卸料。小爐門(mén)上有觀(guān)察窗，方便在冶煉時(shí)觀(guān)察爐內(nèi)情況。上部是圓形密封雙層水冷爐蓋，留有電極桿升降安裝孔。

2、電弧槍及電弧槍升降裝置：電弧槍采用水冷設(shè)計(jì)，可耐高溫，同時(shí)頭部快捷安裝設(shè)計(jì)，便于更換電極鎢針棒。上部密封采用球形窩狀設(shè)計(jì)，電極圓周方向旋轉(zhuǎn)自然無(wú)卡頓。電極升降采用電動(dòng)升降，有電機(jī)減速機(jī)組成，運(yùn)行平穩(wěn)，同時(shí)操作按鈕在升降桿旋轉(zhuǎn)把手處安裝，操作便攜。

3、水冷銅坩堝：銅坩堝爐底采用雙側(cè)水冷設(shè)計(jì)，坩堝設(shè)計(jì)5個(gè)工位，其中一個(gè)吸鑄工位，一個(gè)熔煉除氣工位，三個(gè)冶煉工位。底部配有一吸鑄模具吸鑄模具滑配設(shè)計(jì)，方便拆裝和取料。

4、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手：翻轉(zhuǎn)機(jī)械手也采用球形窩狀設(shè)計(jì)，方便旋轉(zhuǎn)翻料。

5、電控系統(tǒng)：電器元器件均采用西門(mén)子施耐德等，控制柜體上有操作模擬屏，便于學(xué)習(xí)和操作。上面配有冶煉電流指示表，電磁攪拌指示表，故障指示燈等簡(jiǎn)潔直觀(guān)。

6、真空系統(tǒng)及測(cè)量：真空系統(tǒng)采用兩級(jí)泵+真空閥門(mén)，采用氣動(dòng)模式，所有閥門(mén)采用快捷安裝方式，方便拆卸，真空系統(tǒng)分體設(shè)計(jì)安裝在一可以移動(dòng)的安裝平臺(tái)上，方便對(duì)接安裝和供其它設(shè)備使用。真空測(cè)量采用復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量數(shù)顯顯示?？蓴U(kuò)展通訊模式。

7、電弧電源：采用電弧熔煉電弧電源，具有故障報(bào)警指示，安全可靠。